Slovenski etnografski muzej

Plastične pustne maske / 13 630:LJU;0017997

maska
630:LJU;0017997
Avtor 
Stojan Sevšek
Klasifikacija 
Pust, karneval
Lokacija 
Ljubljana
Datum 
1994
Kraj izdelave 
Ljubljana Zalog
Geolokacija 
46.0524N 14.505E

Polovična obrazna maska je narejena iz tankega plastičnega materiala. Pokrije oči in nos. Natakne se na obraz, ob straneh je potegnjena tanka okrogla elastika. Za oči ima odprtine. Črna z rdečim noso (kljunom).
Mere:
d=25cm
š=21cm
g=8cm

Deli